IR级抛光氟化钡（BaF2）色散棱镜 0.15-12um

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。

氟化钙CaF2棱镜 0.13-10um

氟化钙广泛应用于光谱CaF2光学视窗，CaF2棱镜和CaF2透镜。 te别是高纯度的氟化钙（CaF 2）在UV和UV准分子激光窗口中的使用。 氟化钙（CaF2）可以掺杂有铕（Eu）作为γ射线闪烁体。所有CaF2透射在红外中没有吸收带。根据透射范围，氟化钙有多种质量等级。

IR抛光Ge锗衰减全反射（ATR）45°或60°棱镜 1.8-23um

Ge是用于制造光谱学衰减全反射（ATR）棱镜的高折射率材料。 其折射率使得锗在不需要涂层的情况下产生有效的自然的50％分束器。 锗也广泛作用于生产光学滤波器的衬底。 锗覆盖整个8-14um热能带，并用于热成像的透镜系统中。 锗可以被AR涂覆金刚石，产生非常坚韧的光学窗口。 比利时，美国，中国和俄罗斯的少数制造商生产Ge使用Czochralski技术生长。 锗的折射率随温度迅速变化，并且随着带隙用热电子流，材料在所有波长稍高于350K时变得不透明。

IR抛光衰减全反射KRS5 溴碘化铊 ATR 45°棱镜 梯形 0.6-40um

KRS5深红外材料具有高折射率，广泛用于ATR棱镜，窗片和透镜光谱学。 结合锗，KRS5也可用于无热绝缘IR成像系统。 KRS-5通过密封Stockbarger晶体生长技术。选择高纯度的起始材料以确保在2μm和16μm之间不存在阴离子吸收带，并且通过使用120mm的路径长度来检查所有晶体的质量。 注意：铊盐被认为有毒性，应小心处理。

N-BK7硼硅酸盐光学玻璃60° 等边色散棱镜 035-2.5um

N-BK7是由Schott设计用于多种可见光应用的最常见的硼硅酸盐冠状玻璃。 这里的基本数据给出了N-BK7。

IR抛光蓝宝石（Al2O3）60°等边色散棱镜 0.17-5.5um

蓝宝石因其极度的韧性和强度可以很好的应用为UV，VIS和NIR光谱波段的光学窗片材料。 蓝宝石具有多种生长方式。 Verneuil和Czochralski方法通常用于标准级蓝宝石材料。 更高质量的蓝宝石，应用于电子基板的由Kyropulos生长制造，这可以得到非常高的纯度，具有优良的紫外透射特性。 在IR中的使用范围被限制在约5μm，并且在任何光学级别中遇到很少的困难。 它在紫外线范围内，必须注意观察，因为从140nm到240nm的透射对杂质和间隙空位非常敏感。大片蓝宝石可以通过色带生长制成。

UV抛光熔融石英(二氧化硅 SiO2) 45° 直角棱镜

(UV Polished Fused Silica (SiO2) 45° prism) 熔融石英Fused Silica 是一种硬的，耐高温的纯玻璃。 熔融石英用于UV和VIS光谱组件。 IR级的熔融石英可很好应用于NIR波段。熔融石英是玻璃状的石英，因此是各向同性的。 熔融石英坚硬，具有非常低的膨胀。 正常常品种的熔融二氧化硅含有在IR中强烈吸收的水。 提供无熔融二氧化硅的无水品种。熔融二氧化硅通常含有OH，其引起以2.7μm为中心的强吸收，将透射限制在2.2μm并限制对IR应用的有用性。具有低OH（通常小于10ppm）的是可用的，并且它们可以有效地应用于3.0μm。我们提供的IR窗口是由低OH材料制成，应用范围从0.27μm到3.0μm。我们提供的的UV窗口是由更高纯度的材料（包括OH）制成的，应用波段从0.18μm到2.2μm。

IR抛光硒化锌(ZNSE) ATR 衰减全反射棱镜 0.6-21.0um (梯形/平行四边形窗口片)

ZnSe 在红外元器件窗片透镜以及光谱分析ATR 棱镜领域有着广泛的应用。硒化锌(Zinc Selenide)对于CO2激光器的元器件也是一种良好的选择。在二氧化碳激光器工作的波段10.6 microns附近有着良好的透射率。硒化锌材料是一种黄色透明的多晶材料, 结晶颗粒大小约为70μm, 透光范围0.5-15μm。由化学气相沉积(CVD)方法合成的基本不存在杂质吸收, 散射损失极低。由于对10.6μm波长光的吸收很小, 因此成为制作高功率CO2激光器系统中光学器件的优选材料。 此外在其整个透光波段内, 也是在不同光学系统中所普遍使用的材料。 硒化锌材料对热冲击具有很高的承受能力, 使它成为高功率CO2激光器系统中的优秀光学材料。硬度只是多光谱级ZnS的2/3, 材质较软易产生划痕, 而且材料折射率较大, 所以需要在其表面镀制高硬度减反射膜来加以保护并获得较高的透过率。在其常用光谱范围内, 散射很低。在用做高功率激光器件时, 需要严格控制材料的体吸收和内部结构缺陷, 并采用极小破坏程度的抛光技术和高光学质量的镀膜工艺。

IR级抛光硅（Si）ATR衰减全反射梯形棱镜 1.2-15um

光学级硅通常规定为具有5至40ohm-cm的电阻率，其电阻率比大多数半导体的都高。 非常高的电阻率材料可客户定制，te别是对于TeraHertz应用。通常的材料为CZ，其在9μm具有Si-O吸收带，因此如果在3至5μm光谱带中使用该窗口，则此性质不重要。 如果需要FZ，可以提供没有这种吸收的浮区材料。 硅主要用作3至5um波段的光学窗口并用作光学滤波器的制片基底。 具有抛光面的大块硅也用作物理实验中的中子靶。

IR抛光 硅Si 布鲁斯特角棱镜 73.98° (1.2-15μm)

(IR Polished Silicon (Si) brewster angle prism)光学级硅通常规定为具有5至40ohm-cm的电阻率，其电阻率比大多数半导体的都高。 非常高的电阻率材料可客户定制，te别是对于TeraHertz应用。通常的材料为CZ，其在9μm具有Si-O吸收带，因此如果在3至5μm光谱带中使用该窗口，则此性质不重要。 如果需要FZ，可以提供没有这种吸收的浮区材料。 硅主要用作3至5um波段的光学窗口并用作光学滤波器的制片基底。 具有抛光面的大块硅也用作物理实验中的中子靶。

VUV级抛光(LiF)氟化锂棱镜 0.104-7um（等边/45°直角晶体）

Microphotns的LiF(氟化锂)晶体在真空紫外线区域中显示出优异的透射率。它用于可见光和0.104μm - 7μm的红外线的窗口，棱镜和透镜。氟化锂晶体对热冲击敏感，并在400°C受到大气水分子影响。

IR级抛光氟化钡（BaF2）色散棱镜 0.15-12um

氟化钡能很好应用于光谱组件。 氟化钡通常适用于无源IR波段（8~14μm）的应用，通常用作热成像的窗片。 对于相同厚度，比氟化钙的透射范围进一步延伸到IR中大约1mm。 主要用于IR应用，并注意到具有IR抛光的视窗可能在由低纯度BaF 2晶体制成的VUV中具有受限的透射性能。氟化钡通过真空Stockbarger技术生长。 与CaF2不同，BaF2不以天然状态存在，并且所有材料必须化学合成，使得BaF2生产相对昂贵。氟化钡容易裂开，对热冲击非常敏感。它抛光好可以蚀刻 (5)。不是所有的晶体都是由zui高等级的化学品制造的; 对于IR级光学器件，较低规格是足够的并且降低了成本，然而在UV和VUV中的透射受到限制。zui高纯度的氟化钡VUV材料可以被认为是快闪烁级(6)。

硒化锌(ZNSE)棱镜 0.6-21um (布鲁斯特角/等边三角/色散)

ZnSe 在红外元器件窗片透镜以及光谱分析ATR 棱镜领域有着广泛的应用。硒化锌(Zinc Selenide)对于CO2激光器的元器件也是一种良好的选择。在二氧化碳激光器工作的波段10.6 microns附近有着良好的透射率。硒化锌材料是一种黄色透明的多晶材料, 结晶颗粒大小约为70μm, 透光范围0.5-15μm。由化学气相沉积(CVD)方法合成的基本不存在杂质吸收, 散射损失极低。由于对10.6μm波长光的吸收很小, 因此成为制作高功率CO2激光器系统中光学器件的优选材料。 此外在其整个透光波段内, 也是在不同光学系统中所普遍使用的材料。