具有高分辨率和效率的多功能光谱仪 随着在半导体制造中使用 13.5 nm辐射的 EUV 光刻技术的发展，极紫外辐射（EUV、XUV）已成为一个重要的工业意义。这导致对高分辨率和灵敏的诊断和测量技术的需求。因此，我们构建了一个模块化的 XUV / EUV 和软 X 射线光谱仪，可用于等离子体光谱学、源诊断和计量学。它te别适用于激光等离子体源（LPS）和高次谐波源（高次谐波产生high harmonic generation，HHG）。