IR抛光(Si)硅窗片 1.2-15um (AR增透膜/楔形/打孔/圆形/矩形/CZ/FZ级材料窗口片)-筱晓光子

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IR抛光(Si)硅窗片 1.2-15um (AR增透膜/楔形/打孔/圆形/矩形/CZ/FZ级材料窗口片)

IR抛光(Si)硅窗片 1.2-15um (AR增透膜/楔形/打孔/圆形/矩形/CZ/FZ级材料窗口片)

光学级硅通常规定为具有5至40ohm-cm的电阻率，其电阻率比大多数半导体的都高。非常高的电阻率材料可客户定制，te别是对于TeraHertz应用。通常的材料为CZ(Czochralski级提拉法生成)，其在9μm具有Si-O吸收带，因此如果在3至5μm光谱带中使用该窗口，则此性质不重要。如果需要FZ(Float Zone级材料)，可以提供没有这种吸收的（FZ）工艺的材料。硅主要用作3至5um波段的光学窗口并用作光学滤波器的制片基底。具有抛光面的大块硅也用作物理实验中的中子靶。硅通过Czochralski提拉法技术（CZ）生长并且包含一些导致9um的吸收带的氧。为了避免这种情况，硅可以通过（FZ）工艺制备。光学硅通常轻掺杂（5~40 Ohm cm），以在10um以上的波段好的透射。硅具有30至100um的另一通带，其仅在非常高电阻率的未补偿材料中有效。掺杂通常是硼（p型）和磷（n型）。

产品型号产品名称 工作波长规格尺寸 操作

SICZP50-50-10NEUTIR抛光CZ级(Si)硅窗片矩形 N-type 掺杂 1.2-15um (50mm x 50mm x 10mm 用于中子反射窗口片) 1.2-15μm50mm x 50mm x 10mm 加入询价单

SICZP25-15-2IR抛光CZ级(Si)硅窗片矩形 1.2-15um (25.0X15.0X2.0mm 窗口片) 1.2-15μm25.0×15.0×2.0mm 加入询价单

SIFZP30-3IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (30.0X3.0mm 窗口片) 1.2-15μm30.0×3.0mm 加入询价单

SIFZP30-2IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (30.0X2.0mm 窗口片) 1.2-15μm30.0×2.0mm 加入询价单

SIFZP25.4-1IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (25.4X1mm 窗口片) 1.2-15μm25.4×1mm 加入询价单

SIFZP25.4-0.5IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (25.4X0.5mm 窗口片) 1.2-15μm25.4×0.5mm 加入询价单

SIFZP15-1IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (15.0X1.0mm 窗口片) 1.2-15μm15.0×1.0mm 加入询价单

SIFZP13-1IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (13.0X1.0mm 窗口片) 1.2-15μm13.0×1.0mm 加入询价单

SIFZP12-1IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (12.0X1.0mm 窗口片) 1.2-15μm12.0×1.0mm 加入询价单

SIFZP10-2IR抛光FZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (10.0X2mm 窗口片) 1.2-15μm10.0×2mm 加入询价单

SICZP50-3IR抛光CZ级(Si)硅窗片 1.2-15um (50.0X3.0mm 窗口片) 1.2-15μm50.0×3.0mm 加入询价单