产品特点采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长、 全自动化的对焦和套刻，易于使用、 晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面jue对定位精度0.1um、 套刻精度： 0.2um、 时间5~30分钟、 500umMin. 线宽、 可灰度曝光（128阶）、 尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间
产品型号MCML-110A
应用领域微流控生物芯片MEMS功率器件LED等试制加工带有2.5D图案的微光学元件衍射光器件制作 教学科研
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波长 分辨率
365nm 1.0um
MCML-110A | MCML-120A | |
Wavelength 波长 | 365nm | 365nm |
Max. frame 最大帧 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
Max exposure 最大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
Alignment accuracy 对准精度 | <200nm | <100nm |
field curvature 场曲率 | < 1 um | < 1 um |
Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
Input file 输入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
Z level accuracy Z级精度 | <1 um | <1 um |
Environment 环境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
样品
（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）
无
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