极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)

三维无损成像技术在材料科学和医学等许多应用领域都非常重要。我们开发了一种成像技术，利用极紫外和软x射线辐射来获得纳米分辨率的横截面图像。 例如，我们能够无损地研究硅片或生物样品中的近表面结构。 在下边的图片中，你可以看到几个埋在硅下的金层。它们的位置可以用我们的计量仪测量，精度低于1nm。这些层位于表面下的110 nm和128 nm处。